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SU8光刻膠

 
品牌: Microchem
應(yīng)用領(lǐng)域: 應(yīng)用于 MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域
力學(xué)性能: 良好
正負(fù)性: 負(fù)性
單價(jià): 面議
起訂:
供貨總量:
發(fā)貨期限: 自買(mǎi)家付款之日起 7 天內(nèi)發(fā)貨
所在地: 江蘇 蘇州市
有效期至: 長(zhǎng)期有效
最后更新: 2017-08-31 16:12
瀏覽次數(shù): 63882
 
公司基本資料信息
詳細(xì)說(shuō)明
 產(chǎn)品簡(jiǎn)介:

新型的化學(xué)增幅型負(fù)像 SU- 8 膠是一種負(fù)性、環(huán)氧樹(shù)脂型、近紫外線光刻膠,克服了普通光刻膠采用 UV光刻導(dǎo)致的深寬比不足的問(wèn)題,十分適合于制備高深寬比微結(jié)構(gòu)。SU- 8 光刻膠在近紫外光(365nm- 400nm)范圍內(nèi)光吸收度很低,且整個(gè)光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致,可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比的厚膜圖形;它還具有良好的力學(xué)性能、抗化學(xué)腐蝕性和熱穩(wěn)定性。SU- 8 在受到紫外輻射后發(fā)生交聯(lián),是一種化學(xué)擴(kuò)大負(fù)性膠,可以形成臺(tái)階等結(jié)構(gòu)復(fù)雜的圖形;且 SU- 8 膠不導(dǎo)電,在電鍍時(shí)可以直接作為絕緣體使用。由于具有較多優(yōu)點(diǎn),SU- 8 膠正被逐漸應(yīng)用于 MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前,直接采用 SU- 8 光刻膠來(lái)制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。

 

光刻前清洗工藝:

為了獲得更好的光刻效果,在進(jìn)行光刻膠旋涂之前,需要對(duì)基材進(jìn)行清洗。常用的清洗方法是利用濃硫酸及雙氧水的混合溶液浸泡,隨后用去離子水清洗并用氮?dú)獯蹈?。除此之外還可以利用反應(yīng)離子刻蝕或等離子表面清洗儀清洗。

 

 

光刻工藝:

將 SU- 8 光刻膠組分旋涂在基材上,旋涂厚度幾至幾百微米。涂覆晶片經(jīng)過(guò)前烘并冷卻至室溫。在烘干過(guò)程中,優(yōu)先選擇加熱均勻且溫度控制精確的加熱板;不能使用鼓風(fēng)干燥箱,防止因?yàn)楣饪棠z表面優(yōu)先固化從而阻止內(nèi)層光刻膠溶劑的揮發(fā)。冷卻后,將負(fù)光掩模與涂覆晶片接觸并在汞燈的紫外輻射劑量10-250mJ/㎝²條件下進(jìn)行曝光。曝光結(jié)束后,選擇合適的烘烤溫度及時(shí)間。將晶片在顯影液中浸漬顯影,隨后用氮?dú)獯蹈伞?/span>

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