評論

    “十二五”期間國內(nèi)電子專用設備儀器目標產(chǎn)值2200億元：“十一五”期間國內(nèi)電子專用設備取得了銷售收入年均增長20%，但市場規(guī)模依然較小，2010年國內(nèi)半導體設備市場僅占全球市場份額的5.67%，同時在產(chǎn)品技術上與美、日、歐等發(fā)達地區(qū)存在較大差距。根據(jù)“規(guī)劃”要求，“十二五”時期我國電子專用設備產(chǎn)業(yè)和電子儀器產(chǎn)業(yè)將分別實現(xiàn)17%和15%的年均增長速度，到2015年實現(xiàn)銷售收入400億和1800億元。同時要形成以企業(yè)為主體、產(chǎn)學研用結(jié)合的技術創(chuàng)新體系，開發(fā)滿足國家重大戰(zhàn)略需求、具有市場競爭力的關鍵產(chǎn)品，提升市場自給率，并扶植一批重點企業(yè)。

    重點發(fā)展集成電路、太陽能電池、新型元器件生產(chǎn)設備，通信與網(wǎng)絡、半導體和集成電路、數(shù)字電視測試儀器：電子設備儀器產(chǎn)業(yè)是重要的基礎性產(chǎn)業(yè)，占據(jù)著電子信息產(chǎn)業(yè)的技術制高點，對于推動國內(nèi)電子信息產(chǎn)業(yè)整體發(fā)展具有巨大的的杠桿作用。但由于國內(nèi)電子設備制造基礎薄弱，目前關鍵設備主要依賴進口，如何提升本土產(chǎn)品配套率、縮小國內(nèi)集成電路設備、工藝技術水平與國際先進水平的差距，是“規(guī)劃”的重點目標。(1)集成電路生產(chǎn)設備：實現(xiàn)8英寸0.13微米集成電路成套生產(chǎn)線設備和12英寸65納米-45納米集成電路關鍵設備產(chǎn)業(yè)化，除光刻機外，包括刻蝕、封測設備等基本縮小差距至1代甚至基本同步；(2)太陽能電池生產(chǎn)設備：太陽能級多晶硅及單晶硅生長、切割、清洗設備、全自動晶硅太陽能電池片生產(chǎn)線設備和薄膜太陽能生產(chǎn)設備實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化，技術達到國際先進水平；(3)新型元器件生產(chǎn)設備：重點發(fā)展OLED顯示技術相關生產(chǎn)設備研發(fā)，尤其是在AMOLED領域?qū)崿F(xiàn)技術突破，表面貼裝設備除自動貼片機外達到國際先進水平，集成電路后封裝設備、液晶顯示器件后工序設備、LED設備(除MOCVD)、片式元件設備、凈化設備等接近國際先進水平。(4)測試儀器：重點針對4G的TD-LTE基站和終端、射頻與高速數(shù)?；旌闲盘柤呻娐贰⒋鎯ζ?、數(shù)字電視等開發(fā)專用測試儀器。

    國家將繼續(xù)發(fā)揮產(chǎn)業(yè)引導作用，并推動完善產(chǎn)業(yè)扶持政策：從產(chǎn)業(yè)特點來看，電子設備研發(fā)周期長、資本投入大，同時要求準確把握技術和市場方向，屬于高投資高風險產(chǎn)業(yè)，因此政策支持和引導對于本土設備制造商發(fā)展具有極其重要的作用?！耙?guī)劃”也提出了充分發(fā)揮國家科技重大專項、電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展基金等引導作用，支持產(chǎn)品技術創(chuàng)新，鼓勵本土重大技術裝備訂購和使用，為國內(nèi)開發(fā)的專用設備儀器提供良好的市場銷售環(huán)境和政策支持，提升本土產(chǎn)品的競爭優(yōu)勢，并將加強對集成電路專用儀器、集成電路專用設備及電子專用設備關鍵零部件等相關企業(yè)的稅收優(yōu)惠政策的支持力度。

    針對“規(guī)劃”提出的發(fā)展方向，我們認為受益的相關上市公司有：七星電子(8英寸擴散爐、8英寸清洗設備和單晶爐等集成電路設備)、新綸科技(防靜電/潔凈室行業(yè)系統(tǒng)集成方案供應商)、大族激光(激光加工設備業(yè)內(nèi)領先，PCB、光伏、LED封裝等專用設備制造)、上海新陽(引線腳表面處理和晶圓鍍銅、清洗等配套設備)、漢威電子(氣體傳感器、氣體檢測儀器儀表和氣體檢測控制系統(tǒng))、中航電測(應變式傳感器及汽車綜合性能檢測設備)、奧普光電(光電測控儀器設備)、天龍光電(單晶硅生長爐、切斷機和切方滾磨機等光伏設備以及MOCVD)、京運通(多晶硅鑄錠爐、大尺寸單晶硅生長爐、區(qū)熔單晶硅生長爐)、精功科技(多晶硅鑄錠爐)等。