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本多超聲波清洗機W-200-HFMK II

 
品牌: 4100
單價: 面議
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發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 天內(nèi)發(fā)貨
所在地: 全國
有效期至: 長期有效
最后更新: 1970-01-01 08:00
瀏覽次數(shù): 101
 
公司基本資料信息
詳細說明
本多超聲波清洗機W-200-HFMK II  適合細膩的清洗
因為中頻清洗,對工件損傷很少。并且和低頻清洗相比,具有清洗效果均勻,噪音小的特點。
容易清洗微小的贓物
適合于清洗硬盤,半導體,液晶等微小的贓物。
適合于染色,脫氣,溶解,攪拌等用途
使用于磁頭,鏡片等的染色和脫氣,化學品的溶解和攪拌等。

型號:W-200-HFMK II T
振蕩方式:單頻振蕩
最大功率:200W(可調(diào)整功率)
振蕩頻率:200KHz
振蕩器電源:AC100V/6A、AC200、220V/3A
           (定貨時選擇)
外形尺寸(mm)W×D×H:3000×430×140
使用液溫范圍:50℃
換能器類型:投入型換能器、振動板型換能器


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