儀器介紹         
    EC500系列電化學(xué)工作站是國(guó)內(nèi)第一款模塊化、全電腦控制的高性能電化學(xué)綜合測(cè)試儀，適合兩電極、三電

極及四電極工作模式，可滿足化學(xué)、材料、能源、環(huán)境、醫(yī)學(xué)等眾多領(lǐng)域的科研及教學(xué)工作。根據(jù)方法的不同

EC500系列電化學(xué)工作站分為三個(gè)型號(hào)： EC550電化學(xué)工作站，此款工作站實(shí)驗(yàn)方法最全、配置最高、應(yīng)用范圍

最廣，是一款通用型電化學(xué)工作站。 EC510電化學(xué)工作站特別適用于電分析化學(xué)的各種研究。EC530電化學(xué)工作

站的實(shí)驗(yàn)方法是針對(duì)于物化研究的需要而特別提供的。

主要特點(diǎn)   
    EC550電化學(xué)綜合測(cè)試儀擁有±24V的槽壓、±300mA的電流范圍，電流測(cè)量下限低于50pA，可直接用于微、

納米電極上穩(wěn)態(tài)電流的測(cè)量，當(dāng)與屏蔽箱連接時(shí)可測(cè)量1 pA或更低的電流。此外，儀器可配置大電流模塊，從

而將電流測(cè)量范圍拓寬至±2A ～±5A。 
    EC550電化學(xué)綜合測(cè)試儀的測(cè)試技術(shù)豐富全面，不僅具備常規(guī)的電化學(xué)、電分析測(cè)試技術(shù)，而且還增加了多

頂點(diǎn)循環(huán)伏安、階梯伏安、反式常規(guī)脈沖、循環(huán)脈沖、循環(huán)方波以及最先進(jìn)的掃描-階躍-延時(shí)等技術(shù)。此外，

EC系列電化學(xué)儀還具備可編程任意波形實(shí)驗(yàn)技術(shù)，根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求，由用戶自定義任意波形，從而完成經(jīng)典電化

學(xué)方法所覆蓋不到的實(shí)驗(yàn)。 
    EC550電化學(xué)綜合測(cè)試儀內(nèi)部含有高性能的任意波形發(fā)生器（DDS系統(tǒng)），可用于連續(xù)和分段掃描，不僅可

實(shí)現(xiàn)8M點(diǎn)（16bit）/S的電位掃描速率，而且具有±10V的寬掃描范圍。在此電壓范圍內(nèi)可以進(jìn)行任意跨度的掃

描，其連續(xù)掃描跨度達(dá)20V。在實(shí)現(xiàn)大跨度掃描的同時(shí)兼具微小跨度的電位增量。儀器內(nèi)部可根據(jù)掃描范圍的不

同自動(dòng)選擇電位增量的大小，當(dāng)掃描電壓在2V跨度范圍內(nèi)電位增量?jī)H有微小的30uV。由于該儀器擁有8M點(diǎn)

（16bit）/S的數(shù)據(jù)處理速度，所以在電位增量為30uV時(shí)掃描速度依然可達(dá)240V/S，當(dāng)電位增量在300uV時(shí)掃描

速度可達(dá)2400V/S。 
    在信號(hào)采集方面，EC550電化學(xué)綜合測(cè)試儀使用了高信噪比、高動(dòng)態(tài)范圍的18bit模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器，分辨率

可達(dá)信號(hào)輸入范圍的1/260000。在實(shí)現(xiàn)高精度的同時(shí)采樣速度依然可達(dá)800K/S，實(shí)現(xiàn)了快速與精確的完美平衡

。 
    在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)方面，EC550電化學(xué)綜合測(cè)試儀采用了先進(jìn)先出的堆棧式存儲(chǔ)器，儀器的采樣速率不受儀器與PC

機(jī)通訊速率的限制，及時(shí)將高速采集的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)在儀器內(nèi)部并實(shí)時(shí)傳給PC機(jī)，實(shí)現(xiàn)了真正的高速實(shí)時(shí)采樣。 
    在控制溫漂方面，EC550電化學(xué)綜合測(cè)試儀采用了先進(jìn)的全自動(dòng)零點(diǎn)校正系統(tǒng)，通過(guò)自動(dòng)監(jiān)控來(lái)調(diào)整溫度漂

移所帶來(lái)的測(cè)量誤差，與同類儀器相比大幅提高了其精度和可靠性。

技術(shù)參數(shù)
模塊化結(jié)構(gòu)  是（優(yōu)點(diǎn):進(jìn)口儀器的標(biāo)準(zhǔn)配備，擴(kuò)展性強(qiáng)，降低地線阻抗，提高測(cè)量精度）
恒 電 位 / 恒電流   支持 
最 大 電 流  ±300 mA 
最 大 反 應(yīng) 電 壓  ±10V 
電 位 掃 描 跨 度 范 圍  20V                              
電 位 上 升 時(shí) 間  < 1 uS 
槽 壓   ±24 V 
三 電 極 或 四 電 極 設(shè) 置  支持                                 
電 流 范 圍  ±300 mA 
參 比 電 極 輸 入 阻 抗  1×1012 Ω 
電 流 測(cè) 量 范 圍  1×10-12 A/V － 1×10-1 A/V 共12 檔 （1×10-12 A/V —1×10-9 A/V需屏蔽箱） 
輸 入 偏 置 電 流  < 1 pA 
電 流 測(cè) 量 分 辨 率  電流范圍的0.0004％ 
施 加 電 位 分 辨 率  30μV@跨度2V 300μV@跨度20V 
電 位 更 新 速 率  8 MHz                         
快 速 數(shù) 據(jù) 采 集  18位分辨率@ /800KHz 
輔 助 數(shù) 據(jù) 采 集  24 位 @ 10 Hz 
自 動(dòng) 及 手 動(dòng) iR 降 補(bǔ) 償  硬件支持 
CV 和 LSV 掃 描 速 度  0.000001 - 5000 V/s 
電 位 掃 描 時(shí) 電 位 增 量  30μV @240 V/s 300μV @2400 V/s 
CA 和 CC 脈 沖 寬 度  0.0001 — 1000 sec 
CA 和 CC 循 環(huán) 次 數(shù)  250 
DPV 和 NPV 脈 沖 寬 度  0.0001 - 10 sec 
自 動(dòng) 電 位 和 電 流 零 位 調(diào) 整  支持 
電 位 和 電 流 測(cè) 量 低 通 濾 波 器 , 自 動(dòng) 或 手 動(dòng) 設(shè) 置  支持 
旋 轉(zhuǎn) 電 極 控 制 輸 出  ±10 V 
電 解 池 控 制 輸 出  通 氮，攪 拌，敲 擊 
最 大 數(shù) 據(jù) 長(zhǎng) 度  128k –20M 可 選 擇

EC550 系列電化學(xué)工作站功能方法 
                                               
線 性 掃 描 伏 安 法 （ LSV ） (#●)               
循 環(huán) 伏 安 法（CV/One vertex)                       
循 環(huán) 伏 安 法（CV/Two vertex)                       
循 環(huán) 伏 安 法（CV/One vertex/Multi)               
循 環(huán) 伏 安 法（CV/ Two vertex/Multi)               
階梯波伏安法（LSC/Staircase) (#●)               
階梯波伏安法（CV/One vertex) (staircase)       
階梯波伏安法（CV/Two vertex) (staircase)       
階梯波伏安法（CV/One vertex/Multi) (staircase)        
階梯波伏安法（CV/ Two vertex/Multi) (staircase)       
常 規(guī) 脈 沖 伏 安 法 （ NPV ）(#●)               
反 式 常 規(guī) 脈 沖 伏 安 法 （Reverse NPV ）         
差分（微分）常規(guī)脈沖伏安法 （DNPV）(#●)           
循環(huán)/ 差分（微分）脈沖伏安法 （DPV+Cyclic ）       
循環(huán) / 方 波 伏 安 法 （SWV+Cyclic ）               
計(jì) 時(shí) 電 流 法 （One Step CA ）                       
計(jì) 時(shí) 電 流 法 （Two Step CA ）                       
計(jì) 時(shí) 電 量 法 （One Step CC ）                       
計(jì) 時(shí) 電 量 法 （Two Step CC ）                       
計(jì) 時(shí) 電 位 法 （One Step CP ）                          
計(jì) 時(shí) 電 位 法 （Two Step CP ）                          
電 流 掃 描 計(jì) 時(shí) 電 位 法 （ CPCR）            
電流掃描 - 階 躍 - 保 持 混 合 技 術(shù) （I- SSRT ）  
電位掃描 - 階 躍 - 保 持 混 合 技 術(shù) （P-SSRT ）  
方 波 電 位 安 培 檢 測(cè)（Square-Wave Generator）(#●)  
三 角 波 電 位 安 培 檢 測(cè)（Triangular -Wave Generator） 
正 弦 波 電 位 安 培 檢 測(cè)（Sine -Wave Generator）  
脈 沖 電 位 安 培 檢 測(cè)（Pulse Generator）          
電 流 - 時(shí) 間 曲 線（I - T）                         
控 制 電 流 電 解 庫(kù) 侖 法（CCC）  Constant Current Coulometry  
控 制 電 位 電 解 庫(kù) 侖 法  （CPC）Constant Potential Coulometry
線 性 掃 描 溶 出 伏 安 法（LSDV）                
常 規(guī) 脈 沖 溶 出 伏 安 法（NPDV）                 
差 分 常 規(guī) 脈 沖 溶 出 伏 安 法（DNPDV）         
差 分 脈 沖 溶 出 伏 安 法（DPDV）                 
方 波 溶 出 伏 安 法 （SWDV）                         
微 分 電 位 溶 出 伏 安 法（PSA）   
開(kāi) 路 電 壓 - 時(shí) 間 曲 線 （OCPT ）                 
Tafel 方 法 （ TAFEL ）                                  
斷電流法（OCCT）Open Circuit Current Technology         
RDE 控 制 （ ±10 V 輸 出 ）                         
可 編 程 任 意 波 形 實(shí) 驗(yàn) 系 統(tǒng)         
交 流 阻 抗 測(cè) 量 （ 需 增 加 模 塊 ）   
阻 抗 - 電 位 曲 線（ 需 增 加 模 塊 ）   
阻 抗 - 時(shí) 間 曲 線（ 需 增 加 模 塊 ）   
注 ：(#●) 包 括 相 應(yīng) 的 極 譜 法 和 溶 出 伏 安 法