濕法設(shè)備又名半導(dǎo)體濕制成設(shè)備，Wet Station，半導(dǎo)體清洗設(shè)備。是應(yīng)用于半導(dǎo)體清洗方面的設(shè)備。
WS-1000濕法設(shè)備產(chǎn)于美國，是原裝的半導(dǎo)體濕制成設(shè)備。

半導(dǎo)體濕制成設(shè)備廠家介紹：
美國Laurell,Inc總部位于美國賓夕法尼亞，成立于1985年，是一家專業(yè)提供化工半導(dǎo)體材料清潔涂敷處理等特殊工藝的公司。公司擁有WS-1000-CP5/ WS-1000-CP7-D等各類半導(dǎo)體清洗設(shè)備，目前客戶已遍布全球。主要半導(dǎo)體濕制成設(shè)備有以WS-1000濕法設(shè)備和WS-1000m濕法設(shè)備為代表的多種半導(dǎo)體清洗設(shè)備。

WS-1000濕法設(shè)備有標準型和更優(yōu)的濕法設(shè)備，標準型濕法設(shè)備使用于一般要求，更好的濕法設(shè)備具有優(yōu)良性能，滿足客戶對半導(dǎo)體清洗設(shè)備的更高要求。半導(dǎo)體清洗設(shè)備有不同型號，請根據(jù)具體需要選擇半導(dǎo)體清洗設(shè)備。推薦的半導(dǎo)體清洗設(shè)備：WS-1000m濕法設(shè)備，

WS-1000濕法設(shè)備的一般特性：
◆全白色聚丙烯構(gòu)造濕法設(shè)備
◆可內(nèi)置任何Laurell公司的旋涂機
◆排放簡便的入氮口和DI噴頭
◆如果需要更小尺寸有微型的供選擇
WS-1000濕法設(shè)備一般信息：
Laurell公司的WS-1000系列旋轉(zhuǎn)處理濕法設(shè)備可以被配置成測試模塊構(gòu)造，安裝簡便，易于拆卸，更便于操作者控制。典型的WS-1000處理過程包括（但不限于）：
◆涂敷
◆蝕刻
◆開發(fā)-水/溶劑
◆清洗-水/溶劑
◆確認，硫酸/雙氧水（原樣混合）
◆確認，HBr
◆溫控開發(fā)
◆沖洗/烘干

WS-1000濕法設(shè)備特點：
全聚丙烯構(gòu)造（見下文的自滅火功能）
可兼容安裝任何Laurell 旋涂機
有排孔的濕隔層（易于拆除）
潮濕的空間
標準規(guī)格的排氣空間
被熱水器，水泵，容器等隔離的組件/容器

WS-1000濕法設(shè)備選項：
◆排氣聯(lián)鎖控制處理器（一些型號是標準的）
◆加熱和原材料攪拌
◆抵抗力沖洗
◆排水轉(zhuǎn)向裝置
◆真空負荷棒
◆晶片盒座
◆檢漏
◆輕塔

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