近日，德國(guó)Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會(huì)展 LASER World of Photonics上發(fā)布了全新雙光子無掩模光刻打印系統(tǒng) – Quantum X，并榮獲創(chuàng)新獎(jiǎng)。該獎(jiǎng)項(xiàng)由交易會(huì)和英國(guó)出版社Europa Science贊助，以此來表彰Nanoscribe在設(shè)計(jì)用于折射和衍射微光學(xué)工業(yè)制造中的突出成績(jī)和杰出表現(xiàn)。
“我們很高興今天能夠獲得創(chuàng)新獎(jiǎng)。”在頒獎(jiǎng)典禮結(jié)束后，Nanoscribe首席執(zhí)行官M(fèi)artin Hermatschweiler強(qiáng)調(diào)說。“在經(jīng)歷了密集緊張的技術(shù)開發(fā)階段后，這獎(jiǎng)項(xiàng)對(duì)我們團(tuán)隊(duì)和QuantumX的出色表現(xiàn)來說都是一個(gè)非常好的認(rèn)可。”Martin Hermatschweiler說道。
Quantum X 新型超高速無掩模光刻技術(shù)的核心是Nanoscribe獨(dú)家專利的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的卓越性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高端復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝大大縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。
