2015年7月21日，日立高新宣布推出200kV場發(fā)射透射電子顯微鏡HF5000，HF5000集合了日立高新的透射電鏡及掃描透射電鏡技術，達到了亞埃級的空間分辨率(0.1 nm或更低)，球差校正器為其標準配置。將于2015年10正式啟動銷售。

　　從納米材料、電子器件的科學研究，到企業(yè)研發(fā)及質(zhì)量控制，用戶對于電子顯微鏡的空間分辨率及元素分析能力的需求都在提升。這反過來也促進了對于電子顯微鏡像差校正和高靈敏度分析的需求。

　　為了響應這方面的需求，日立高新開發(fā)了200kV及300kV透射電鏡專用的STEM球差校正器和大立體角EDX。根據(jù)用戶的反饋，日立高新將這兩種技術整合到了200kV的透射電鏡平臺上，推出了HF5000場發(fā)射透射電鏡，同時實現(xiàn)了亞埃級的高分辨率成像和高靈敏度分析。

HF5000透射電鏡

　　HF5000繼承了日立高新HD-2700掃描透射電子顯微鏡的技術特點，如它的內(nèi)部球差校正器，自動像差校正功能，原子分辨率的二次電子像，并綜合了日立高新HF系列透射電鏡的技術。

　　另外，HF5000采用了日立高新經(jīng)過考驗而被認可的冷場發(fā)射電子槍技術，并且它的鏡筒和樣品臺經(jīng)過了重新的設計，從而顯著提升了儀器的性能和穩(wěn)定性。

    主要技術參數(shù)

編譯：秦麗娟