
PP-TOFMS是HORIBA Scientific (Jobin Yvon光譜技術(shù)) 在 2012年推出的一款產(chǎn)品,它誕生于歐盟項目“EMDPA”,在項目進展過程中,HORIBA Scientific與來自7個國家的材料科學(xué)家進行了反復(fù)的論證與實驗,最終由專業(yè)的輝光放電質(zhì)譜(GD-MS)研究團隊設(shè)計而成。
帶您認(rèn)識等離子體分析飛行時間質(zhì)譜儀(PP-TOFMS)
PP-TOFMS是一款集輝光放電和飛行時間質(zhì)譜優(yōu)勢為一體的新型分析設(shè)備,可極大地推進鍍層樣品的分析進程。
高分辨率、高靈敏度下,可快速完成深度剖析
PP-TOFMS結(jié)合了輝光放電等離子體的濺射速度和時間飛行質(zhì)譜的快速及高靈敏度,可以實現(xiàn)高分辨率和高靈敏度條件下固體材料的快速化學(xué)深度剖析。
擅長分析各類鍍層樣品,獲取元素、分子等信息
PP-TOFMS適用于導(dǎo)體、半導(dǎo)體、非導(dǎo)體各類材料及鍍層分析,每30微秒即可獲得H到U元素的完整質(zhì)譜和分子信息,包括同位素。在獲得固體樣品的元素信息的同時,PP-TOFMS還可以獲得同位素及分子的分布信息。在整個分析過程中,樣品無需預(yù)處理,設(shè)備無需超高真空腔,操作簡單而快速。
主要應(yīng)用領(lǐng)域:
· 摻雜分析(半導(dǎo)體、光電子、太陽能光伏、傳感器、固態(tài)電源)
· 表面和整體污染鑒定(PVD鍍層、摩擦層、電氣鍍層、光學(xué)鍍層、磁性鍍層)
· 腐蝕科學(xué)和技術(shù)(示蹤物、標(biāo)記監(jiān)測、同位素標(biāo)記)
· 界面監(jiān)測等
應(yīng)用實例——如何對稀土元素進行深度剖析?
PP-TOFMS非常適用于稀土元素的檢出,下圖為氧化鋅薄膜的深度剖析。未使用校準(zhǔn)曲線,通過離子束比可直接獲得稀土元素Eu和Tb隨深度的原子百分比變化。
PP-TOFMS的深度分辨率達1 nm,可有效地將薄鍍層中元素隨深度的變化表征出來。并可獲得任何深度的全質(zhì)譜。
數(shù)據(jù)采集分析軟件設(shè)計得非常人性化,可清晰直觀呈現(xiàn)所有數(shù)據(jù),以便快速掌控信息。