儀器用途：
具有相同頻率、相同的振動(dòng)方向和恒定相位差的光線，在空間疊加會(huì)發(fā)生干涉現(xiàn)象，這就是光波的干涉原理。利用光波的干涉原理和顯微鏡非接觸檢測(cè)特點(diǎn)對(duì)試樣表面上高度極微小差別進(jìn)行測(cè)量。
這類顯微鏡依據(jù)所測(cè)光潔度▽3-▽9/0.8-80um為光切法顯微鏡，▽10-▽14/1-0.03um為干涉顯微鏡。適用于測(cè)量零件表面刻線，鍍層深度等，配以特殊的附件還能測(cè)量顆粒加工紋路面，低反射率的工件表面，對(duì)大型工件作表面測(cè)量時(shí)，可將儀器倒置在工件上。

主要技術(shù)規(guī)格：
1、測(cè)量表面光潔度范圍：▽3-▽9(相當(dāng)不平度0.8-80um) 
2、表面光潔度（級(jí)別）：9、8-7、6-5、4-3
3、所需物鏡：60倍N.A.0.55、30倍N.A.0.40、                              14倍N.A.0.20、7倍N.A.0.12
4、總放大倍數(shù)：510X、260X、120X、60X
5、物鏡組件工作距離(mm):0.04、0.2、2.5、9.5
6、視場(chǎng)（mm）:0.3、0.6、1.3、2.5
7、不平寬度：用測(cè)微目鏡：0.7微米~2.5毫米
用座標(biāo)工作臺(tái)：（0.01~13）毫米
8、儀器重量約： 23公斤