用途：
該X射線晶體分析儀，主要用于研究物質(zhì)內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)。如：?jiǎn)尉Фㄏ?、檢驗(yàn)缺陷、物質(zhì)定性、測(cè)定點(diǎn)陣參數(shù)、測(cè)定殘余應(yīng)力等。
主要參數(shù)：
電  源：AC220V  50HZ  30A
功  率：2KW
靶  材：Cu（可選其他靶材）
管電壓：50KV（分檔可調(diào)）
管電流：50mA（分檔可調(diào)）
穩(wěn)定度：±1%
保  護(hù)：過(guò)功率、過(guò)電壓、過(guò)電流、無(wú)水
冷  卻：循環(huán)水、制冷水箱
防  護(hù)：鉛有機(jī)玻璃防護(hù)罩
相  機(jī)：
a)德拜相機(jī)（粉沫相機(jī)）大、小兩種
b)勞厄相機(jī)（平板相機(jī)）
上述兩種相機(jī)，用戶可自選配置