PSD系列紫外臭氧清洗機(jī)常用于掃描探測顯微鏡的樣品應(yīng)用，我們的設(shè)備能用于清洗原子力顯微鏡探針，掃描探針顯微鏡標(biāo)準(zhǔn)和表面上常規(guī)的油漬層和殘留的無機(jī)材料，也能用來改變物體表面的疏水性，有助于部件和表面的化學(xué)改性，經(jīng)過氧化和硬化處理的探針有利于在掃描過程中保持探針的幾何形狀，削尖的探針有利于提高側(cè)向分辨率。
    PSD系列產(chǎn)品是數(shù)字控制的臺(tái)式清洗設(shè)備，可以提供4×4英寸至12×16英寸的清洗尺寸。設(shè)備配備一個(gè)帶反射罩的高強(qiáng)度UV格柵燈盤, 和可調(diào)節(jié)高度的樣品臺(tái)，用于優(yōu)化樣品位置和清洗效果。4英寸或者更大尺寸的系統(tǒng)具有進(jìn)出氣接口。該系統(tǒng)由一個(gè)方便的預(yù)設(shè)置控制器控制，非常容易操作。
 預(yù)設(shè)置的數(shù)字控制器
 方便簡單的兩按鍵操作
 自動(dòng)工作：15.30.60.120分鐘
 工作進(jìn)程可以在任何時(shí)候手工終止
 系統(tǒng)不能提供加熱盤選項(xiàng)
 經(jīng)濟(jì)實(shí)用的設(shè)計(jì)使得PSD系列成為最受歡迎的選擇
 容易安裝和使用
PSD Pro系列：
    PSDP 系列產(chǎn)品是研究級(jí)的紫外臭氧清洗系統(tǒng)，具有最佳的靈活性，能滿足有機(jī)分子去除和其他眾多的應(yīng)用。可以直接在空氣中操作，或是通過其中一個(gè)進(jìn)氣口通入氧氣來增加臭氧產(chǎn)生?？删幊虜?shù)字控制器可以控制系統(tǒng)進(jìn)程，來確保精確時(shí)間和優(yōu)化清洗參數(shù)。
•可編程數(shù)字控制器
•數(shù)字顯示倒計(jì)時(shí)
•輕松升級(jí)到熱盤選項(xiàng)
•可執(zhí)行暫停和終止指令
•內(nèi)部存儲(chǔ)器用于記錄之前的參數(shù)設(shè)置
一個(gè)強(qiáng)大的系統(tǒng)，提供了增強(qiáng)的進(jìn)程控制！ 
一般特性：
電 源：100.120.220.240VAC.50-60周期。
樣品高度：所有系統(tǒng)都配置可調(diào)節(jié)高度的樣品臺(tái)，調(diào)節(jié)燈與樣品之間的間距，并帶位置鎖定，標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)尺寸為UV格柵燈大小或更大。
UV格柵燈：產(chǎn)生臭氧的低壓汞格柵燈，帶反射罩。燈管壽命大約為5000小時(shí)。
UV反射罩：UV反射罩一般比UV格柵燈大一英寸。比如4×4英寸燈管反射罩尺寸是5×5英寸。
樣品放置：打開清洗腔上蓋，露出樣品臺(tái)，允許360度裝入樣品。
安全裝置：當(dāng)清洗腔打開時(shí)，系統(tǒng)安全鎖會(huì)關(guān)掉UV燈。
進(jìn)出氣口：標(biāo)準(zhǔn)配置2個(gè)氣接口，可選更多。
反應(yīng)腔：選項(xiàng)客戶化定制，鋁或石英材料。
臭氧中和器：中和器用于臭氧排除。（PSD和PSDP選項(xiàng)）
工作原理：PSD系列產(chǎn)品通過產(chǎn)生185nm和254nm高強(qiáng)度UV光分解有機(jī)分子（污染物）。185nm的光可以將氧分子O2轉(zhuǎn)變成活性的O3臭氧分子。254nm的光同時(shí)激發(fā)表面的有機(jī)分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在時(shí)間短并且同時(shí)也被254nm光分解，樣品臺(tái)可以調(diào)節(jié)樣品到燈管的距離來優(yōu)化性能。PSD和PSDP分解有機(jī)污染物，然后形成CO2和H2O蒸氣，同時(shí)也將臭氧分子轉(zhuǎn)變成氧分子。
PSD 和PSDP 型號(hào)及尺寸： 紫外臭氧設(shè)備分為PSD系列（標(biāo)準(zhǔn)版），PSDP系列（升級(jí)版）和PSDP系列（帶加熱功能版）三種，有六個(gè)系列可以選擇，配上相應(yīng)的設(shè)備尺寸4、6、8英寸等，請參看詳細(xì)資料。
Modle  PSD-LS (Low Sample Height)          Modle PSD (High Sample Height)
Modle  PSDP-LS (Low Sample Height)         Modle  PSDP-UVT (Heat High Sample)
Modle  PSDP (High Sample Height)            Modle  PSDP-UVD (Dual Lamp–High)
型號(hào)  UV4  UV8  UV816  UV12  UV1216 
覆蓋尺寸（mm）  127x127  228x228  228x432  330x330  330x432 
覆蓋面積（Sq. In.）  25 Sq. In.  81Sq.In.  153Sq.In.  169Sq.In.  221Sq.In. 
樣品臺(tái)尺（mm）  228x228  228x228  330x432  330x432  330x432 
處理材料大?。╩m）  
102×102  
200×200  
200×406  
305×305  
305×406 
UV燈尺寸（mm）      
樣品臺(tái)高（mm）                     102     63.5 
設(shè)備外形尺(mm)                    381L×381W×267H 
典型應(yīng)用包括：
•表面的原子級(jí)清洗 
•聚合物粘接
•去除有機(jī)分子
•釋放捕獲的無機(jī)分子
•微流控制作
•微米/納米構(gòu)型
•紫外光固化
•表面化學(xué)改性
•表面殺菌
•表面氧化
•金屬粘結(jié)準(zhǔn)備……