ARL 4460金屬分析儀集當今最新分析技術(shù)于一體，它采用了其專利技術(shù)電流控制光源（CCS）和時間解析光譜（TRS）技術(shù)，并與獨具特色的工廠校正曲線和自診斷功能相結(jié)合，將分析技術(shù)帶入一嶄新天地。不但可以進行常規(guī)分析，還可最大限度地滿足金屬光變分析工作者的各種復(fù)雜要求。耐久可靠的結(jié)構(gòu)設(shè)計和制造工藝，確保儀器在種惡劣環(huán)境下都具有卓越的分析性能。 
　　● 穩(wěn)定，可靠的硬件
　　● 一流的工廠校正曲線 
　　● 領(lǐng)先的光譜制造技術(shù) 
　　● 優(yōu)秀的分析軟件
　　● 分析準確度更高，分析速度更快 
　　● 分析痕量元素和氣體元素具有新的突破
　　● 分析范圍廣泛：適于分析鋼鐵，鋁，銅，鎂，錫，鉛，鋅，貴金屬等金屬材料
　　● 對操作人員無特殊要求

　　技術(shù)規(guī)格 
　　光普室設(shè)計: 一米焦距，帕邢龍格裝置，真空型，恒溫控制（38±0.1０C）,特殊鑄鐵材料制造,最多設(shè)置60條通道
　　試樣臺: 充氬樣品臺;內(nèi)置自循環(huán)水冷系統(tǒng)
　　光柵: 根據(jù)分析任務(wù),儀器配置以下三種光柵中的一種
　　1080gr/mm,1667gr/mm,2160gr/mm
　　分辨率: 視光柵,出射狹縫和光譜等到級而定
　　狹縫寬度: 入射狹縫:20um; 出射狹縫:25 , 37.5 , 50 , 75um
　　光電倍增管: 直經(jīng)Φ28mm,10級側(cè)窗管,光學玻璃或人造石英窗
　　光源: 電流控制光源(CCS) 
　　光譜儀控制: 利用CMOS技術(shù)的APL MMB386微處理器,帶狀態(tài)控制卡;每條通道均配置數(shù)模(A/D)轉(zhuǎn)換器和衰減器分為41檔;測量電子部分的動態(tài)范圍與測量時間成正比,一般為2×106計數(shù)/秒
　　12位可編程衰減器 
　　時間分辨光譜(TRS) 
　　環(huán)境要求:室溫:16～30０C,最大允許溫差為50C/小時;相對濕度20～80% 　
　　電力要求:電壓230V（+10%-15%），保護性接地的單相電源 
　?。妷翰▌映^±10%時需用5KVA穩(wěn)壓器）。電流12A，頻率50或60Hz；功率2.5KVA;接地電阻<1Ω 
　　歐洲標準:89/392/EEC低壓材料,89/366/EEC電磁 
　　氬氣要求: 純度99.995%,最大含量5ppm(分析高Si樣品時,最大含量為2ppm) 
　　流量3.5升/分(分析時),0.35升/分(待機時) 　
　　幾何尺寸: 長1385(不計激發(fā)臺) ×寬910×高1220mm 
　　長1690(計激發(fā)臺) ×寬910×高1220mm　
　　系統(tǒng)重理: 約540公斤 　
　　輔助設(shè)備: 氬氣凈化器 瓶裝氬氣配氣系統(tǒng) 穩(wěn)壓器 制樣機