1． 設備名稱：     去蠟清洗設備。
2． 清洗對象：     Wafer 1花籃
                  處理槽尺寸：2、2.5、3英寸Wafer 花籃。
3． 處  理  數(shù)：   花籃（25張）1批

4． 設備構成：     1）清洗設備主體         1套
                  2）Sweep Sonic 振蕩器    2套 （Pre-Tech產品）
                  3）Sweep Sonic 振動子    2套 （Pre-Tech產品）
                  4）控制盤               1套
                  參見 結構咐圖
7．所要電氣容量： 3相380V  50Hz  約10KVA（備AC200V變壓器）
8．所要純水量：   約5L/min  0.1~0.15MPa  23℃以上。
9. 所要空氣量：   100NL/min （0.5～0.7MPa）
10.所要排氣量：   15M3L/min  0.2KPa以上。